电子超纯水系统

产品简介

电子超纯水系统是专为电子行业生产超高纯度水的设备，能为芯片制造、半导体加工等对水质要求高的工艺提供优质水源，去除水中几乎所有的杂质，满足精密制造对水质的严苛要求。

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更新时间：2025-04-09

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以下是电子超纯水系统的介绍：

系统概述

电子超纯水系统是专为电子行业生产超高纯度水的设备，能为芯片制造、半导体加工等对水质要求高的工艺提供优质水源，去除水中几乎所有的杂质，满足精密制造对水质的严苛要求。

系统构成

- 预处理系统：包括多介质过滤器去除悬浮物、泥沙等大颗粒杂质；活性炭过滤器吸附余氯、有机物等；精密过滤器拦截更小粒径的颗粒，保护后续设备。

- 反渗透系统：利用高压泵使水通过反渗透膜，去除水中的大部分盐分、有机物、微生物等，是除盐的关键步骤。

- 离子交换系统：通常采用混床树脂，进一步去除水中残留的微量离子，实现深度除盐，提高水的纯度。

- 精处理系统：有超滤装置去除微小颗粒和胶体；紫外线杀菌器杀灭细菌和病毒；抛光混床对水质进行最终的精细处理，确保水质达到超纯标准。

- 供水系统：由超纯水储存罐（氮封水箱）和输送泵等组成，通过循环管路将超纯水稳定地输送到各个用水点，保证用水的连续性和稳定性。

系统特点

- 超高水质：能生产出电阻率高达18MΩ·cm以上的超纯水，满足电子行业严格的水质要求。

- 自动化程度高：采用先进的自动化控制系统，可实现远程监控、自动调节运行参数、故障报警和诊断等功能，减少人工操作，提高系统运行的可靠性和稳定性。

- 稳定运行：系统设计合理，关键设备采用高品质材料和部件，具备良好的抗腐蚀、抗污染能力，可长期稳定运行，降低维护成本。

应用领域

- 半导体制造：用于芯片清洗、光刻、蚀刻等工艺，防止杂质影响芯片性能和成品率。

- 显示面板生产：如液晶面板、OLED面板制造中的镀膜、清洗等工序，保证面板的显示质量和稳定性。

- 电子元器件生产：在电容器、电阻器、集成电路封装等生产过程中，提供高纯度的清洗用水和工艺用水。

核心技术指标

指标	半导体行业要求	技术参数说明
电阻率	≥18.2 MΩ·cm（25℃，SEMI F78）	动态稳定，波动≤±0.1 MΩ·cm，反映离子含量极低。
硼离子（B³⁺）	≤0.05 μg/L（ASTM-D5127-13）	硼为P型掺杂剂，过量会导致n型硅反型，需通过靶向树脂深度去除至≤1 ppt（部分工艺）。
总有机碳（TOC）	≤5 ppb	有机物影响半导体材料性能，需185nm波长紫外线+活性炭联合处理。
金属离子	≤1 ppt（Na⁺、K⁺、Fe³⁺等）	碱金属和重金属导致PN结失效，通过离子交换树脂精准控制。
颗粒污染	≤200个/mL（≥0.05μm，SEMI F83）	亚微米级颗粒需通过超滤+精密过滤去除，防止电路短路。
微生物	≤0.1 CFU/mL	微生物代谢产物含磷，需紫外线杀菌+0.22μm终端过滤。